Shaanxi BLOOM Tech Co., Ltd. er en av de mest erfarne produsentene og leverandørene av hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3 i Kina. Velkommen til engros bulk høykvalitets heksametyldisilazane(hmds) cas 999-97-3 for salg her fra vår fabrikk. God service og rimelig pris er tilgjengelig.
Heksametyldisilazan (HMDS), fargeløs gjennomsiktig væske. Det er lett å hydrolysere, frigjøre NH3 og generere heksametyldisilan. I nærvær av katalysator reagerer den med alkohol eller fenol for å produsere trimetylalkoksysilan eller trimetylaryloksysilan. Det reagerer med vannfritt hydrogenklorid for å frigjøre NH3 eller NH4Cl for å produsere trimetylklorsilan. Det kan fremstilles ved å reagere trimetylklorsilan med NH3. Det kan brukes som et hydrofobt behandlingsmiddel for overflaten av pyrogen silisiumdioksyd og et reagens for å gi N-atomer i organisk syntesereaksjon, som et hjelpemiddel for silisiumkarbidfibre, for å forbedre varmebestandigheten og styrken til silisiumkarbidfibre, og som et anti-utfellingsmiddel for belegg. Det brukes også til å fremstille organosilisiumforbindelser.
|
|
|
|
Kjemisk formel |
C6H19NSi2 |
|
Nøyaktig messe |
161.11 |
|
Molekylvekt |
161.40 |
|
m/z |
161.11 (100.0%), 162.11 (6.5%), 162.11 (5.1%), 162.11 (5.1%), 163.10 (3.3%), 163.10 (3.3%) |
|
Elementær analyse |
C, 44,65; H, 11,87; N, 8,68; Si, 34,80 |
Heksametyldisilazan (HMDS)(CAS-nummer: 999-97-3), som en multifunksjonell organisk silisiumforbindelse, har vist uerstattelig verdi innen ulike felt som medisin, halvleder, organisk syntese og materialmodifikasjon på grunn av sin unike silisiumnitrogenbindingsstruktur (Si-N) og høye reaktivitet.
Anvendelsen av HMDS i det farmasøytiske feltet står for 64 %, og det er kjernereagensen for syntese av antibiotika, anti-tumormedisiner, antivirale legemidler og målrettede legemiddelbærere. Dens kjerneverdi gjenspeiles i de doble funksjonene gruppebeskyttelse og reaksjonsaktivering:
Antibiotikasyntese
- laktamantibiotika (som penicillin og cefalosporin): HMDS beskytter hydroksyl- eller aminogrupper gjennom silanisering, og forhindrer viktige mellomprodukter fra å brytes ned under sure eller høye-temperaturforhold. For eksempel, i syntesen av cefalosporin-antibiotika, beskytter HMDS hydroksylgruppen av 7-aminocefalosporansyre (7-ACA), og øker reaksjonsutbyttet fra 65 % til 89 % samtidig som det reduserer genereringen av biprodukter.
Aminoglykosid-antibiotika (som amikacin og kanamycin): HMDS beskytter aminogruppen for å sikre stabiliteten til reaksjonsveien. I syntesen av amikacin økte introduksjonen av HMDS renheten til mellomproduktet fra 92 % til 98 %, noe som betydelig forbedret effektiviteten til storproduksjon i- skala.
antineoplastiske legemidler
Fluorouracil (5-FU): HMDS beskytter hydroksylgruppene til legemiddelmellomprodukter gjennom silanisering, og reduserer oksidative bivirkninger. Eksperimentelle data viser at etter bruk av HMDS ble syntesetrinnene for fluorouracil forenklet fra 7 trinn til 4 trinn, utbyttet økte fra 58 % til 76 %, og renheten nådde 99,5 %.
Målrettet medikamentbærer: HMDS med høy renhet brukes til å modifisere overflaten av liposomer eller polymernanopartikler, og forbedre biokompatibiliteten og målrettingen. For eksempel økes akkumuleringen av modifiserte anti-kreftmedisinbærere i tumorvev med tre ganger, og systemisk toksisitet reduseres med 40 %.
antivirale legemidler
Azvudine: HMDS reduserer risikoen for generering av urenheter i syntesen av nye antivirale legemiddelmellomprodukter gjennom fler-beskyttende reaksjoner. Prekliniske studier har vist at introduksjonen av HMDS reduserer urenhetsinnholdet i mellomprodukter fra 2,1 % til 0,3 %, og støtter stor-produksjon med en årlig kapasitet på over 50 tonn.
Halvlederindustrien: "bonding-eksperten" innen fotolitografiteknologi
I halvlederfeltet,Heksametyldisilazan (HMDS), som et bindemiddel for fotoetsemidler, forbedrer chipproduksjonsnøyaktigheten gjennom overflatemodifikasjonsteknologi, og står for 20 % av bruksområdene. Dens kjernevirkningsmekanisme er:
Hydrofobisk overflatebehandling
HMDS sprayes på overflaten av silisiumskiver i væske- eller gassfase, og silisiumnitrogenbindingen kondenserer med silisiumhydroksylgruppen (- Si OH) for å danne et hydrofobt silisiumnitridlag (kontaktvinkelen øker fra 20 grader til 120 grader), noe som øker adhesjonen mellom de tre ganger silisium og penselen. dybden på etseløsningen med 80 %, og forbedrer korrosjonsmotstanden betydelig.
Elektroniske produktapplikasjoner
Elektronisk HMDS (renhet større enn eller lik 99,999%) har blitt mye brukt i felt som flatskjermer og brikkeproduksjon. For eksempel, i 12-tommers wafer-behandling, reduserer HMDS-behandling strippehastigheten for fotoresist fra 15 % til 3 %, kontrollerer linjebreddens enhetlighet innenfor ± 2 nm, og støtter prosesser på 5 nm og under.
Organosilisiummaterialer: nøkkelmodifikatorer for ytelsesforbedring
HMDS står for 3% av bruken innen organosilisium, og er kjernetilsetningen for å optimalisere egenskapene til materialer som silikongummi, silikonolje og silikonharpiks
Silikongummiforsterkning
HMDS, som et tetningsmiddel, reagerer med hydroksylgruppene på enden av silikongummimolekylkjeden gjennom silisiumnitrogenbindinger for å danne en stabil tverrbundet struktur. Eksperimenter har vist at tilsetning av 2 % HMDS til silikongummi øker rivestyrken med 40 %, utvider temperaturmotstandsområdet fra -50 grader til 200 grader til -80 grader til 250 grader, og reduserer kompresjonssettet med 50 %.
Hydrofob behandling av silikonolje
HMDS reagerer med silanolgruppene på overflaten av gass-fase hvit kjønrøk for å danne et hydrofobt silazanlag, noe som øker kontaktvinkelen til silikonolje fra 30 grader til 150 grader og reduserer avskumningstiden med 60 %. Det er mye brukt i belegg, kosmetikk og andre felt.
Høytemperatur smøremiddeltilsetning
HMDS kombineres med smøreoljemolekyler for å danne en beskyttende film, reduserer flyktigheten med 30 %, forlenger oksidasjonsinduksjonsperioden med 2 ganger og øker termisk stabilitet til 300 grader. Den er egnet for miljøer med høye-temperaturer, for eksempel flymotorer.
Materialoverflatebehandling: en "hovednøkkel" for funksjonell modifikasjon
HMDS oppnår ytelsesoptimalisering ved å kondensere hydroksylgrupper på overflaten av uorganiske materialer gjennom silisiumnitrogenbindinger, med en påføringsandel på 8 %
Behandling av pulvermateriale
Hvit kjønrøk: Etter HMDS-behandling ble det spesifikke overflatearealet redusert fra 200m²/g til 180m²/g, agglomerasjonsfenomenet ble redusert med 70 %, og dispergerbarheten i gummi ble betydelig forbedret.
Titanpulver: Hydrofobisk overflatebehandling reduserer sedimenteringshastigheten til titanpulver i organiske løsemidler med 90 %, noe som gjør det egnet for 3D-utskrift av metallpulver.
Modifisering av fiberstoff
HMDS-behandling av silisiumkarbidfibre danner et silisiumnitridbeskyttende lag, som øker fiberens varmebestandighet fra 1200 grader til 1500 grader og styrkeretensjonsgrad fra 65 % til 85 %. Det er mye brukt i komposittmaterialer for luftfart.
Heksametyldisilazan (HMDS)står for 5% innen organisk syntese, og kjerneapplikasjonene inkluderer:
Syntese av klorsilanmonomer
HMDS gjennomgår klorutvekslingsreaksjon med klorsilaner (som oktametylcyklotetrasiloksan) for å generere polysilazan, med et utbytte 20 % høyere og energiforbruk redusert med 30 % sammenlignet med direkte ammoniakkmetoden. Det er en viktig metode for å tilberede keramiske forløpere.
Gasskromatografi halereduksjon
Som en fast væske reduserer HMDS overflateadsorpsjonsaktiviteten til bæreren, øker toppsymmetrien med 40 % og reduserer deteksjonsgrensen til 0,1 ppm. Det er mye brukt i miljøovervåking, narkotikaanalyse og andre felt.
Klargjøring av elektronmikroskopprøver
HMDS, som et kritisk punkt tørkemiddel, erstatter tradisjonell etanoldehydrering, reduserer prøvekrymping med 80 %, bevarer celleultrastruktur og er mye brukt i biomedisinsk forskning.
Det er fem hovedsyntetiske prosesser for dette produktet:
1. Trimetylsilan reagerer med ammoniakk under katalyse av Pt eller Pd. Reaksjonstemperaturen er høy og utstyret er strengt. Utbyttet er opptil 95,8 %.
2. Trimetylklorsilan fremstilles fra trimetylklorsilan ved å reagere med ammoniakk i inert løsningsmiddel og rektifisere.
3. Med heksametyldisiloksan som råmateriale, reagerer det med konsentrert svovelsyre for å generere silisiumsulfat, og silisiumsulfat reagerer med hydrogenklorid for å generere trimetylklorsilan, og passerer deretter ammoniakk for å fremstille HMDS.
4. Heksametyldisiloksan reagerer med fosforpentoksid eller fosforsyre for å fremstille silisiumfosfat, og går deretter inn i ammoniakk for å fremstille HMDS.
5. HMDS fremstilles ved omsetning av heksametyldisiloksan og konsentrert svovelsyre for å produsere silisiumsulfat direkte gjennom ammoniakkgass.
For tiden brukes den andre metoden hovedsakelig til industriell produksjon av HMDS i Kina. Denne metoden tar trimetylklorsilan som råmateriale, reagerer med ammoniakk i inert løsningsmiddel, og fremstilles deretter ved destillasjon.
Metode 1:
Tilsett 630 ml trimetylklorsilan, 250 ml heksametyldisiloksan, 500 ml benzen og 500 ml xylen i reaktoren med agitator, termometer og trykkmåler, og rør jevnt. Ammoniakkgassen introduseres for ammoniakkreaksjon, og endringen av materialtilstand i kolben observeres nøye under prosessen med innføring av ammoniakkgass. Kontroller ammoniakkgassens strømningshastighet strengt, og reaksjonshastigheten bør ikke være for høy for å hindre saltpartikler i å pakke inn trimetylklorsilan. Kontrollreaksjonstemperatur Mindre enn eller lik 80 grader og reaksjonstrykk Mindre enn eller lik 0,2Mpa. Etter ammoniasjonsreaksjonen, avkjøl materialet til 35 grader og tilsett 800 ml vann for den første vannvaskingen. Etter vask, stå i 5 minutter og fjern den vandige NH4Cl-løsningen i det nedre laget i faser. Tilsett 400 ml 30 % kaliumhydroksidløsning for å vaske den organiske fasen. Etter vask, la den stå i 5 minutter, og separer deretter den nedre vandige fasen. Den organiske fasen vaskes med 800 ml vann for andre gang. Etter faseseparasjon er det øvre materialet rå HMDS. Under vaskeprosessen skal vaskevannet for første vask være vaskevannet for andre vask etter alkalisk vask. Råproduktet sendes til destillasjonstårnet for å separere reaksjonsløsningsmidlet og produktet, og til sluttheksametyldisilazanmed innhold større enn eller lik 99 % oppnås med et utbytte på 89,99 %.
Metode 2:
En metode for fremstilling av heksametyldisiloksan fra heksametyldisiloksan inkluderer følgende trinn:
1) Sett 1000 kg heksametyldisiloksan i en reaksjonsbeholder med en kapasitet på 1500 L, mat tørr hydrogenkloridgass inn i reaksjonsbeholderen for reaksjon, og generer trimetylklorsilan og vann; Trykket i reaksjonsbeholderen kontrolleres til ca. 0,2 MPa, temperaturen er 30 grader, og rørehastigheten i reaksjonsbeholderen er 65 r/min. Under reaksjonen blir det genererte vannet sluppet ut fra bunnen av reaksjonsbeholderen.
Når massen av trimetylklorsilan i den blandede løsningen av heksametyldisiloksan og trimetylklorsilan i reaksjonsbeholderen ovenfor utgjør 30 % av massen til den blandede løsningen, stopp å passere hydrogenkloridgass, og reaksjonen avsluttes.
2) Overfør blandingen av heksametyldisiloksan og trimetylklorsilan oppnådd ovenfor til en annen reaktor med en kapasitet på 3000 L og rør den. Fyll reaktoren med tørr ammoniakk for å generere heksametyldisiloksan og ammoniumklorid. Trykket i reaktoren er ca. 0,25 MPa, temperaturen er 35 grader, og reaksjonstiden er 5 timer.
3) Ammoniumkloridet i reaksjonsproduktet i trinn 2) separeres gjennom ammoniumkloridseparasjonsfortykkeren, og deretter korrigeres resten for å fjerne heksametyldisiloksan for til slutt å oppnåheksametyldisilazan (HMDS).
Populære tags: hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3, leverandører, produsenter, fabrikk, engros, kjøp, pris, bulk, til salgs